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【24h】

大電力高速パルス生成器によるオシロスコープのスキュー補正

机译:大功率高速脉冲发生器的示波器偏斜校正

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摘要

本報告ではSiC MOSFETを用いて大電力高速パルスを生成し,これを様々なプローブで測定することでオシロスコープによる波形取得時のスキューについて議論した.適切に校正されたプローブにおいても,高周波領域もしくは大電圧/大電流領域において正しく測定できない場合がある.電力変換回路の高周波化にともない,使用しているプローブの特性をきちhと理解することが重要である.
机译:在本报告中,我们使用SiC MOSFET来产生高功率的高速脉冲,并用各种探针测量该探针。讨论了使用示波器获取波形时的偏斜。也在适当校准的探针,高频域或大量时,它可能不会可以在电压/高电流区域中正确测量。了解用作H的探头的特性而没有电力转换电路的高频。

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