Photomask; Pattern complexity; Variable Shaped Beam; E-beam writer; Shot quality; Data fracturing;
机译:基于模型的掩模数据准备,使用20nm器件的重叠镜头
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机译:医疗设备协调质量管理要求-确保医疗设备的全球质量
机译:Sub-1X设备的掩模图案对电子束发射质量的要求
机译:图案化垂直对齐碳纳米管装置的产品和制造工艺质量控制
机译:快速模板掩膜制造实现了一步式无聚合物石墨烯图案化和柔性石墨烯器件的直接转移
机译:使用电子敏感聚合物面罩的无定形拉马3 / SRTIO3氧化物界面处的电子设备纳米级图案化