Aluminum; Cleaning; Doping; Implants; Plasma sources; Chamber Clean; N-Type Implant; PLAD; Plasma Doping; Remote Plasma Source;
机译:远程等离子体清洁的n型ZnO {0001}表面上的金膜和肖特基接触的结构,微观结构和电学性质
机译:远程等离子体辅助金属有机化学气相沉积法低温生长CdTe及n型掺杂
机译:使用NF_3 /氩气和氯气混合物对氮化钛进行远程等离子刻蚀,用于腔室清洁应用
机译:使用远程等离子体源用于N型等离子掺杂室清洁
机译:远程等离子体处理的n型氧化锌{lcub} 0001 {rcub}上金肖特基触头的电,化学和结构表征。
机译:微波等离子体化学气相沉积掺氮钻石。 II:CH4 / N2 / H2等离子
机译:用远程等离子体源清洗pECVD腔室的表面动力学研究