首页> 外文会议>IEEE SOI-3D-Subthreshold Microelectronics Technology Unified Conference >Suppression of self-heating effect employing bulk vertical-channel bipolar junction transistor (BJT) type capacitorless 1T-DRAM cell
【24h】

Suppression of self-heating effect employing bulk vertical-channel bipolar junction transistor (BJT) type capacitorless 1T-DRAM cell

机译:使用体垂直沟道双极结型晶体管(BJT)型无电容器1T-DRAM单元抑制自热效应

获取原文

摘要

Excellent thermal characteristics of the bulk vertical-channel bipor junction transistor (BJT) type 1T-DRAM compared to the SOI planar type with 20nm generation. The bulk vertical type can operate with the low increase of lattice temperature (ΔTLmax) of 26K and high enough read current margin of 1.8μA/cell, while the SOI planar type shows large ΔTLmax value of 58K.
机译:与20nm世代的SOI平面型相比,体垂直沟道双通道结型晶体管(BJT)1T-DRAM具有出色的热特性。体垂直型可以在26K的较低晶格温度(ΔTL max )升高和足够高的1.8μA/ cell的读取电流裕量下工作,而SOI平面型则具有较大的ΔTL max 值为58K。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号