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Practical wafer Level Threshold Voltage Stability measurement methodology for the fast evaluation of Flash technology

机译:实用晶圆级阈值电压稳定性测量方法,用于快速评估闪光技术

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摘要

Package Level Threshold Voltage Stability (VTS) evaluation on PMOS has emerged as one of the critical reliability concerns in deep sub-micron devices. In this paper, we present a novel method to fast measure VTS at wafer level. Our result shows that changing the Source/Drain IMP species can improve the VTS of a 0.13um Flash.
机译:PMOS上的包级阈值电压稳定性(VTS)评估是深度亚微米器件中的关键可靠性问题之一。在本文中,我们提出了一种在晶片水平下快速测量VTS的新方法。我们的结果表明,改变源/漏极IMP物种可以改善0.13um闪光的VT。

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