critical dimensions (CD); CD uniformity (CDU); advanced mask technology center (AMTC); principle component analysis (PCA); 50kv e-beam mask pattern generators (PG); chemically amplified resist (CAR);
机译:通过快速热处理通过摩尔质量不同的PS-b-PMMA薄膜微调光刻掩模
机译:一种监控光刻过程和相关装置的方法
机译:碳/碳编织增强复合材料的健康监测:使用先进的信号处理技术进行损害评估。第Ii部分:损害发展的声超声波监测
机译:适用于14nm节点以及其他半导体工艺的高级光刻过滤和污染控制
机译:先进的光刻图案技术:材料和工艺。
机译:特刊用于健康监测的智能系统中的高级信号处理
机译:用于先进光刻工艺的157nm光致抗蚀剂材料的表征
机译:先进的连续色调板和工艺兼容现有的军用光刻再现设备和实践。