mask application; double patterning; LELE; DP; litho-etch-litho-etch; mask decomposition; odd cycle;
机译:DFM,设计限制可实现双重图案
机译:通过原子层沉积获得具有10 nm半间距的纳米压印模板光栅,可进行间隔物双重图案化
机译:使用端口顺序故障模型的SoC设计验证的自动形态生成验证模式
机译:可分解的标准单元设计流程可实现双模式技术
机译:正式建模和设计模式的自动验证。
机译:使用RF MEMS开关设计分析和验证Ka波段模式可重构贴片天线
机译:设计在多重模式中的作用:技术开发,设计支持和过程控制