defect printability; native defect; programmed defect; AIT; TEM; EUV mask; simplified printability model;
机译:使用极紫外显微镜研究可印刷相缺陷的临界尺寸:II。孔坑缺陷的可打印阈值区域的定义
机译:极紫外掩模空白板上多层相缺陷的生长和可印刷性
机译:极紫外光刻掩模坯料中非光滑掩埋缺陷的可印刷性
机译:通过模拟和实验研究EUV掩模毛坯上的天然缺陷的可印刷性
机译:天然缺陷增强了砷化铝镓量子阱异质结构中的相互扩散。
机译:ZnO纳米结构中的本征点缺陷测量和处理
机译:本机空白缺陷和编程缺陷的可打印性及其堆栈结构