EBM-8000; 22-nm half-pitch; write-time; shot count; current density; mask-to-mask overlay; pattern fidelity;
机译:使用具有a-Si掩模的近场光刻技术制造半间距32 nm抗蚀剂图案
机译:极紫外光刻中16纳米半间距蚀刻多层掩模的掩模三维效应
机译:面向16至11 nm半间距生成的极端紫外光刻图案化掩模缺陷检测性能评估
机译:EBM-9000:EB掩模写入器,用于生产16nm半间距及以上的产品掩模
机译:面具,声音,回声:欧内斯特·海明威(Ernest Hemingway)建立了作者/读者关系。
机译:新一代Baska面膜与I-GEL和典型喉面罩在门诊泌尿外泌尿外因干预中的比较
机译:使用LCD掩模(第2型报告)的非粘蛋白微立体刻录物 - 使用LCD Live-Motion Match-本层层压制造 -
机译:掩蔽剂在氢化物生成和原子,氢化物发生和原子吸收分光光度法测定贵金属存在下砷,锑,硒,碲和铋的应用