首页> 外文会议>2011 3rd IEEE International Memory Workshop >Downsizing of Ferroelectric-Gate Field-Effect-Transistors for Ferroelectric-NAND Flash Memory Cells
【24h】

Downsizing of Ferroelectric-Gate Field-Effect-Transistors for Ferroelectric-NAND Flash Memory Cells

机译:用于铁电与非快闪存储单元的铁电门场效应晶体管的小型化

获取原文

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号