加熱基板上に作製したFeCoSi-AlFナノグラニュラー膜の磁気特性と TMR

摘要

金属-絶縁体ナノグラニュラー膜は、ナノメーターサイズの微細な構造を有し、その特徴的な膜構造に起因 するTMRなどの様々な機能性を発現する。ナノグラニュラ一膜の特性は、その膜構造に依存し膜構造の変化 により特性が大きく変化することが考えられ、薄膜の作製条件をコントロールすることによって、膜構造を 制御し、任意の特性の薄膜材料を得ることが可能である。特に、薄膜成長中に堆積する基板の温度を調整す ることによって、結晶性やグラニュールの粒径を制御できることが考えられる。本研究では，金属ー絶縁体 ナノグラニュラ一膜の中で優れた耐熱性を有するFeCoSi-AlF膜に関して、加熱基板上に薄膜を作製し、その 磁気特性、TMRおよぴ膜構造について詳細に検討した。