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机译:光刻技术在球形表面上光刻胶的全场厚度测量
Liang Jingyu; Liang Yiyong;
机译:将标准的掩模光刻曝光技术扩展到球形表面
机译:用于避免模具损坏对表面等离振子共振测量性能的新检测方法,以测量纳米压印光刻中的残留层厚度
机译:测量在球形表面上移动的流体膜的厚度
机译:光刻技术中球面光致抗蚀剂的全场厚度测量
机译:使用先进的计量学和拟合技术对极端紫外光刻光刻胶进行表征。
机译:使用干涉光刻和硫族化物光刻胶对表面和薄膜进行纳米结构
机译:表面测量仪表光致抗蚀剂厚度测量。
机译:用于波纹表面上共形光刻的电子沉积光刻胶的X射线曝光
机译:涂层光学层厚度的非间歇分析方法可测量带有光电二极管的凹凸球形表面上的反射或透射。
机译:光学表面厚度测量技术-使用点源和次级图像的分离来确定初级图像点处的半导体厚度
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