electron beam lithography; resist; high exposure sensitivity; spin-coat; glucose; material design;
机译:在硬掩膜层上使用源自生物质的高灵敏度负型植物基抗蚀剂材料进行电子束光刻
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:通过贴花转移光刻和反应性离子束蚀刻在电子材料上的聚二甲基硅氧烷抗蚀剂的微米和亚微米图案化:在高迁移率薄膜晶体管的制造中的应用
机译:电子束光刻植物抗蚀剂材料的开发
机译:用于电子束光刻的无机抗蚀剂的开发:新型材料和模拟。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:不可食用的基于纤维素的生物质抗蚀剂材料适合于用于电子束光刻的水基处理