EUVL; mask, lithography; cleaning; DIO_3; organic contaminant; ruthenium; roughness.;
机译:周围烃类物质在EUVL光学镜的Ru盖层中减少氧化的作用
机译:用于EUVL掩模中的封盖/缓冲液的Ru层的表征
机译:H_2O环境中Ru覆盖多层镜的极紫外辐射形成的表面Ru氧化物的原子氢清洗。
机译:Euvl ru cappaylayer上的损伤/有机游离臭氧含量的DI水清洗
机译:从晶片表面氧化和去除有机薄膜:臭氧水应用和水循环的基础。
机译:使用无机/有机杂化层通过原子层沉积进行有机发光二极管的薄膜封装
机译:毛细血管波纹,III的繁殖特性。清洁水面和各种单层上的毛细纹纹速和衰减分散
机译:关键参数影响EUV引起的Ru型多层反射镜损伤