Mg2Si film; magnetron sputtering; annealing atmosphere; X-ray diffraction; scanning electron microscopy;
机译:射频磁控溅射沉积ZnO薄膜:退火和气氛条件对光催化制氢的影响
机译:后退火气氛对直流和射频磁控共溅射沉积氧化锌镉薄膜的微观结构,光电性能的影响
机译:退火型气氛对DC和RF磁控膜沉积的锌氧化镉膜的微观结构,光学和电性能的影响
机译:退火气氛对磁控溅射沉积Mg_2SI膜生长的影响
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:快速热退火用于射频磁控溅射沉积的高质量ITO薄膜
机译:氮气氛退火对射频磁控溅射沉积In2O3薄膜性能的影响