mask inspection, die to database, mask data rank (MDR), mask data preparation (MDP), printability;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:通过基于MEEF的掩模检测确定可印刷的缺陷
机译:具有同心圆掩蔽特征的新型银行支票签名验证模型及其在各种神经网络训练函数上的性能分析
机译:掩模数据等级和遮罩检测系统的可印刷性验证功能
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:Covid-19的背景下的社区设置中的掩码在社区设置中使用:系统审查生态数据
机译:利用光化学检测和快速模拟研究埋藏EUV掩模缺陷的可印刷性