optical lithography simulation; mask topography effects; polarized illumination; customized illumination; pixelated source; source mask optimization;
机译:具有自由曲面蝇眼的照明系统,可产生极紫外光刻中源掩模优化所规定的像素化瞳孔
机译:浸没式光刻的像素化光源和掩模优化
机译:使用像素化半导体探测器的伽马图像中值改进的维纳滤波器算法优化掩模尺寸:Monte Carlo仿真研究
机译:掩模地形效应在像素化源的优化中的作用
机译:学生波前操纵可补偿光学纳米光刻中的掩模形貌效应。
机译:源到侦听器之间的距离和掩蔽对混响室中人工耳蜗植入的语音感知的影响
机译:稳健的源和掩模优化补偿计算光刻中的掩模形貌效应
机译:近源地形对爆炸波形的影响:远震观测和线性有限差分计算