Plasma properties; Fabrication; Films; Impurities; Atomic layer deposition; Surface contamination; Tungsten;
机译:金属卤化物和酰胺前体获得的原子层沉积HFO2膜的生长特性和电性能的对比研究
机译:使用双(乙基环戊二烯基)镁前体制备的等离子体增强和热原子层沉积镁氧化镁薄膜的生长特性和膜性能
机译:金属前体的离散进料方法改善了原子层沉积金属氧化膜的生长和电性能
机译:等离子体增强原子层沉积钨膜的前体吸附机理,生长特性和电性能通过使用氧化钨前体沉积钨膜
机译:重稀土二氢化物薄膜的生长,结构和一些电性能的研究。
机译:生长温度对使用CpZr N(CH3)2 3 / C7H8鸡尾酒前体原子层沉积制备的ZrO2薄膜的结构和电性能的影响
机译:合成纳米粒子和商用微米级Fe2O3粉末制备厚膜的电学和气敏特性的对比研究