Films; Atomic layer deposition; Thermal resistance; Fluorine; Tungsten; Conductivity; Stability analysis;
机译:使用双(乙基环戊二烯基)镁前体制备的等离子体增强和热原子层沉积镁氧化镁薄膜的生长特性和膜性能
机译:金属卤化物和酰胺前体获得的原子层沉积HFO2膜的生长特性和电性能的对比研究
机译:四(二乙氨基)锆前体远程等离子体增强原子层沉积所沉积的ZrN薄膜的阻挡特性
机译:使用双(乙基环戊二烯基)镁前体的等离子体增强和热原子层沉积氧化镁膜的生长和膜性能
机译:金属有机化学气相沉积和原子层沉积方法,用于从二烷基酰胺前体中生长ha基薄膜,用于高级CMOS栅极堆叠应用
机译:生长温度对使用CpZr N(CH3)2 3 / C7H8鸡尾酒前体原子层沉积制备的ZrO2薄膜的结构和电性能的影响
机译:使用CPZR N(CH3)2 3 / C7H8鸡尾酒前体采用CPZR N(CH3)2 3 / C7H8沉积物制造的ZrO2膜结构和电性能的影响
机译:前驱体的研究及其在电致发光器件211薄膜原子层外延生长中的应用