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Application of spectrophotometry and ellipsometry for determination of optical parameters of optical coating thin films

机译:分光光度法和椭圆光度法在测定光学涂层薄膜光学参数中的应用

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摘要

In the present work usefulness of spectrophotometry and ellipsometry for the determination of different parameters of optical thin films have been discussed. The principles of their operation and some exemplary results for TiO2 thin films deposited by magnetron sputtering are presented.
机译:在本工作中,已经讨论了分光光度法和椭圆光度法对确定光学薄膜的不同参数的有用性。给出了它们的工作原理以及通过磁控溅射沉积的TiO 2 薄膜的一些示例性结果。

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