机译:利用水蒸气抑制具有亚纳米电容等效厚度的Hftio栅介电Ge金属氧化物半导体电容器中不稳定的Low-κ中间层的生长
机译:暴露于等离子体引起的低κ层间介电聚合物材料性能的变化
机译:用于超低介电常数层间电介质应用的层状类金刚石碳和PECVD碳氟化合物薄膜的研究
机译:低κ电介质和蚀刻停止层的缺陷用作ULSI中的层间电介质
机译:低介电常数的氟化聚酰亚胺用作ULSI中的层间电介质的研究。
机译:收费无机/有机物的转移和轨道水平对准接口:介电中间层的作用
机译:用于ULSI电路中的层间介电的溶胶-凝胶沉积的多孔原基多孔低k薄膜