集成电路的预金属化电介质或层间电介质层中的接触结构

摘要

一种集成电路包括源漏区、与该源漏区相邻的沟道区、在该沟道区之上延伸的栅极结构以及在该栅极结构的一侧上并且在该源漏区之上延伸的侧壁间隔物。提供了与该侧壁间隔物接触并且具有顶表面的电介质层。该栅极结构包括栅极电极和从该栅极电极作为突起延伸到达该顶表面的栅极接触。该栅极电极的侧表面与栅极接触的侧表面相互对准。定位在该栅极电极与该沟道区之间的用于晶体管的栅极电介质层在该栅极电极与该侧壁间隔物之间延伸并且进一步在该栅极接触与该侧壁间隔物之间延伸。