机译:等离子增强化学气相沉积(PECVD)方法制备的共掺杂TiO2薄膜的铁磁性
机译:等离子体增强化学气相沉积法制备的二乙氧基甲基硅烷(DEMS)沉积温度对低k:膜的结构和电性能的影响
机译:脉冲偏压对等离子体增强化学气相沉积法制备的硅/氮结合类金刚石碳膜结构和性能的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积制备的SnO_(2)薄膜的等离子体表面改性和气体传感性能
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积和等离子体浸没离子注入和沉积获得的非晶态碳质薄膜的光学,机械和表面特性