electron beam exposure system; multi column cell; character projection; mask writing;
机译:在多列电子束曝光系统中使用四个列单元评估每个电子束和曝光结果
机译:电子束写灰度掩模的两束流方法及其在高分辨率微结构中的应用
机译:多毛细管柱离子迁移谱法(MCC-IMS)作为量化麻醉场所七氟醚职业接触量的新方法:一项观察性可行性研究
机译:E-Beam曝光系统使用多列单元(MCC)与CP用于掩模写入
机译:电子束投影光刻掩模系统在曝光期间的热机械变形。
机译:多毛细管柱离子迁移谱法(MCC-IMS)作为量化麻醉场所七氟醚职业接触量的新方法:一项观察性可行性研究
机译:多毛细管柱离子迁移谱法(MCC-IMS)作为量化麻醉场所七氟醚职业接触量的新方法:一项观察性可行性研究
机译:电子束生成全息掩模用于光学矢量矩阵乘法