EUV; buried defects; defective multiayers; maskblanks; fast simulation methodss; defect inspection; ray tracing; FDTD; FDTD; nmerical dispersion;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:极紫外光刻掩模坯料中非光滑掩埋缺陷的可印刷性
机译:通过建模和仿真方法评估掩埋的原生极紫外掩膜相缺陷的可印刷性
机译:EUV掩模毛坯中掩埋缺陷的建模方法和缺陷可印刷性图
机译:具有掩埋缺陷的EUV光刻掩模的仿真和补偿方法。
机译:基于兔关节软骨缺损模型的Notch / p38MAPK信号通路对BMSCs组织恢复软骨缺损的影响
机译:利用光化学检测和快速模拟研究埋藏EUV掩模缺陷的可印刷性