CD uniformity control; Shade-in-Elements TM; ArF lithography;
机译:微光学激光技术。 第1部分。衍射光学元件和具有幅度传输的光掩模的制造
机译:使用确定性算法控制的激光脉冲时间整形优化超快速相互作用
机译:通过自适应流体动力学模型及时设计激光脉冲,以优化超快的激光-金属相互作用
机译:通过超快速脉冲激光技术改变光掩模的传输分布,通过超快速脉冲激光技术改变实场CD均匀性控制
机译:原位热退火工艺对脉冲激光沉积制造CDS Cdte薄膜太阳能电池结构,光学和电性能的影响
机译:高功率光动力疗法(HLLT)功效的体外初步研究:脉冲二极管激光器和超脉冲二极管激光器之间的比较以及过氧化氢的受控稳定作用
机译:1 CD的变化校正,采用基于激光的新型工艺对光掩模进行局部透射控制