grating reference; CD-SEM; EB cell projection lithography; silicon dry etching; 100-nm pitch size; addressing mark;
机译:NIST跟踪螺距标准可进行CD-SEM校准
机译:关键尺寸扫描电子显微镜在25 nm间距光栅参考下的放大倍率校准
机译:关键尺寸扫描电子显微镜在25 nm间距光栅参考下的放大倍率校准
机译:带有位置识别标记的亚50 nm节距多层光栅的新型CD-SEM放大倍率校准参考