multilayer grating reference; positional identification mark; cd-sem; magnification calibration; material-selective chemical etching; sub-50-nm pitch size;
机译:关键尺寸扫描电子显微镜在25 nm间距光栅参考下的放大倍率校准
机译:关键尺寸扫描电子显微镜在25 nm间距光栅参考下的放大倍率校准
机译:NIST跟踪螺距标准可进行CD-SEM校准
机译:具有位置识别标记的子50-nm间距多层光栅的新型CD-SEM放大校准参考
机译:借助多层神经网络实现无模型工具动态识别和校准