首页> 外文会议>Radio Frequency Integrated Circuits Symposium (RFIC), 2006 IEEE >Minimization of via count in multiple-metal inductors performance characterization and physical modelling
【24h】

Minimization of via count in multiple-metal inductors performance characterization and physical modelling

机译:最小化多金属电感器中的过孔数量,性能表征和物理建模

获取原文

摘要

High Q on-chip inductors are vital for modern RF ICs. A proven method of Q-enhancement is to use multiple metals stacked in a shunt manner, with a dense array of vias. The impact of fewer vias has not been investigated before. Here, we show that the same
机译:高Q片式电感对于现代RF IC至关重要。 Q-Envencement的经过验证的方法是使用以分流方式堆叠的多个金属,具有密集的通孔。之前尚未调查较少的通孔的影响。在这里,我们展示了相同的

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号