机译:在原子层上生长的高可调谐性(Ba,Sr)TiO_(3)薄膜沉积TiO_(2)和Ta_(2)O_(5)缓冲层
机译:用于电压可调装置沉积在(Ba,Sr)RuO_3(BSR)种子层上的(Ba_(0.5)Sr_(0.5))TiO_3薄膜的表征
机译:使用TiO_2缓冲层在高电阻率Si衬底上生长的高可调性和低微波损耗Ba_(0.6)Sr_(0.4)TiO_3薄膜
机译:在原子层上沉积的用于Si集成的缓冲层上具有高可调谐性(Ba,Sr)TiO / sub 3 /薄膜
机译:微观结构 和组成 的可调性 在 溅射沉积 过渡金属 碳化物 薄膜 使用 超低 反应 气体压力 和2D 层
机译:膜厚对原子层沉积超薄TiO2薄膜气敏特性的影响
机译:Pb₀.₃Sr₀.₇TiO₃缓冲层的Ba₀.Sr₀.₀TiO₃薄膜的介电性能
机译:Herstellung和Untersuchung con(Ba,sr)TiO3-Duennschichten fuer zukuenftige hochintegrierte Halbleiterspeichr(制造和测试(Ba,sr)TiO3薄层,用于未来高度集成的半导体存储)