MOSFET; MOS capacitors; silicon; elemental semiconductors; dielectric thin films; nickel alloys; silicon alloys; gate electrode engineering; nitride-oxynitride stack gate dielectrics; leakage reduction; boron penetration resistance; poly Si gate depletio;
机译:TiN金属栅电极的HfO_2 / SrTiO_3堆叠栅介质的电学和结构性能
机译:由Ru电极和基于Hf的CMOS栅极电介质组成的高级栅极堆叠的热稳定性
机译:隔离层介电工程对使用栅堆叠的非对称源下重叠双栅MOSFET的影响
机译:用栅极电极工程延伸N / O堆栅极电介质的寿命
机译:用于CMOS栅电极应用的金属合金和栅堆叠工程。
机译:具有纳米堆叠的高k栅极电介质和3D鳍形结构的高性能III-V MOSFET
机译:使用高k介电层和金属电极的先进栅堆叠的研究