Chemically amplified 193nm resists; delay time stability; photodecomposable base; trialkylsulfonium hydroxide.;
机译:193和157nm应用的材料和抗蚀剂
机译:通过酸扩散常数和/或可光分解的淬灭剂浓度,在使用极紫外光刻技术制造11 nm半间距线间距图形中,进行抗蚀剂图像质量控制
机译:光分解猝灭剂在化学放大电子束抗蚀剂工艺中制造7 nm四分之一间距的线和空间图案中的效应的理论研究
机译:光可分解基础概念在两组分深紫外化学放大抗蚀剂中的应用
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:概念问题和标准。使用统一医学语言系统的应用程序:UMLS作为知识库-用于控制医学词汇管理的基于规则的专家系统方法
机译:光致密基础。一种稳定化学放大抗蚀剂的新颖概念。
机译:抗蚀技术与加工XII的进展。亚0.25微米光刻的193纳米硅烷化工艺的优化