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在抗蚀剂应用中作为光酸产生剂的环状磺酸盐化合物

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摘要

提供了新型光酸产生剂化合物。还提供了包含新型光酸产生剂化合物的组合物。本公开进一步提供了制备和使用本文公开的光酸产生剂化合物和组合物的方法。所述化合物和组合物可用作化学放大抗蚀剂组合物中的光活性组分，用于各种微制造应用。

公开/公告号CN111819495A

专利类型发明专利
公开/公告日2020-10-23

原文格式PDF
申请/专利权人贺利氏贵金属北美代顿有限责任公司;
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申请/专利号CN201980018154.4
发明设计人张永强;R·B·夏尔马;
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申请日2019-03-14
分类号G03F7/039(20060101);G03F7/004(20060101);C07C309/19(20060101);C07C309/09(20060101);G03F7/038(20060101);G03F7/20(20060101);G03F7/40(20060101);
代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;
代理人刘媛媛
地址美国俄亥俄州
入库时间 2023-06-19 08:36:28

1. 在抗蚀剂应用中作为光酸产生剂的环状磺酸盐化合物 [P] . 中国专利： CN111819495A . 2020-10-23
2. 光酸产生剂及含有该光酸产生剂的光致抗蚀剂 [P] . 中国专利： CN102304068B . 2014.04.30
3. Cyclic sulfonate compounds as photo-acid generators in resist applications [P] . 韩国专利： KR20200120696A . 2020-10-21

机译：环状磺酸盐化合物在抗蚀剂应用中作为光酸产生剂
4. Sulfonic acid derivative compounds as photoacid generators in resist applications [P] . 日本专利： JP6545268B2 . 2019-07-17

机译：磺酸衍生物化合物在抗蚀剂应用中作为光酸产生剂
5. Sulfonic acid derivative compounds as photoacid generators in resist applications [P] . 韩国专利： KR102021456B1 . 2019-09-16

机译：磺酸衍生物化合物在抗蚀剂应用中作为光酸产生剂