首页> 外文会议>Electron Devices Meeting, 1999. IEDM Technical Digest. International >A low dark current double membrane poly-Si FT-technology for 2/3 inch 6M pixel CCD imagers
【24h】

A low dark current double membrane poly-Si FT-technology for 2/3 inch 6M pixel CCD imagers

机译:用于2/3英寸6M像素CCD成像器的低暗电流双膜多晶硅FT技术

获取原文

摘要

A 2/3 inch optical format 6M pixel FF-CCD image sensor with pixel dimensions of 3/spl times/3 /spl mu/m/sup 2/ is reported for the first time. To realize a low dark current of 800 pA/cm/sup 2/ at 60/spl deg/C, a high charge handling capacity of 40 kel/pixel, and a high dynamic range of 63 dB, this sensor uses the following key processing technologies: 1) an adapted and improved (in comparison to previously reported work) double membrane poly-Si gate technology with ND processing, 2) an improved supply of hydrogen to the active Si/SiO/sub 2/ interface, 3) an optimized front-end technology.
机译:首次报道了像素尺寸为3 / spl次/ 3 / spl mu / m / sup 2 /的2/3英寸光学格式6M像素FF-CCD图像传感器。为了在60 / spl deg / C下实现800 pA / cm / sup 2 /的低暗电流,40 kel /像素的高电荷处理能力以及63 dB的高动态范围,该传感器使用以下关键处理技术:1)经过改进和改进(与以前报道的工作相比)的具有ND处理的双膜多晶硅闸极技术; 2)改善了向活性Si / SiO / sub 2 /界面的氢供应; 3)优化了前端技术。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号