首页> 外文会议>Indium Phosphide and Related Materials, 1998 International Conference on >Planar selective re-growth around a dry-etched mesa along the 11~0 direction by addition of HCl during MOCVD growth
【24h】

Planar selective re-growth around a dry-etched mesa along the 11~0 direction by addition of HCl during MOCVD growth

机译:在MOCVD生长期间,通过添加HCl,沿11〜0方向在干蚀刻台面周围选择性地重新生长

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