首页> 外文会议>Symposium on amorphous and microcrystalline silicon technology >Role of material structure on molecular diffusion of hydrogen in a-Si:C:H films
【24h】

Role of material structure on molecular diffusion of hydrogen in a-Si:C:H films

机译:材料结构对氢在a-Si:C:H薄膜中分子扩散的作用

获取原文

摘要

We used Fourier Transform Infra-Red (FTIR) analysis of bi-layers of plasma-grown hydrogenated amorphous siicon-carbide films to investigate the role of the material structure in the hydrogen diffusion process.In the bi-layers one layer was deposited using CH_4/SiH_4 and in the other layer CD_4/SiD_4 was applied.The carbon concentration was 20 at.
机译:我们使用了傅里叶变换红外(FTIR)分析了等离子体生长的氢化无定形Siicon-碳化膜的双层,以研究材料结构在氢扩散过程中的作用。使用CH_4沉积一层的双层一层/ SiH_4和在另一层中施加CD_4 / SID_4。碳浓度为20。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号