机译:采用金刚烷基保护基的高耐蚀性EB抗蚀剂及其在248 nm光刻中的应用
机译:采用金刚烷基保护基的高耐蚀性EB抗蚀剂及其在248 nm光刻中的应用
机译:化学放大的抗蚀剂聚合物在248、193和157 nm光刻中的溶解行为
机译:等离子体聚合的甲基硅烷作为抗蚀剂和二氧化硅前体在193和248 nm光刻中的应用
机译:电子束光刻光刻胶的研制与应用。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:所有干光刻:血浆聚合甲基硅烷作为单层抗蚀剂和二氧化硅前体的应用。