double patterning; double exposure; CD uniformity;
机译:通过使用负性显影光刻和蚀刻光刻图案,实现具有自对准的56 nm节距的铜双大马士革互连
机译:闪光灯记忆中的愉悦感偏向:东西方德国人柏林墙倒塌的正面和负面闪光灯记忆
机译:使用简单的DUV负性抗蚀剂通过电子束光刻技术对高纵横比进行构图
机译:用于50nm闪存的正负双色调图案化光刻
机译:通过三体稀有和禁止的魅力来寻找超出标准模型的物理场,将衰减正D介子,正奇怪D介子衰减为正kaon正muon负muon,负kaon正muon正muon,正pion正muon负muon,负介子阳性介子阳性介子阳性介子阳性介子阴性介子
机译:阳性精神分裂症和阴性精神分裂症与发作性记忆障碍的不同模式有关
机译:MR-POSEBR:高分辨率电子束光刻和3D表面图案的新型正音抗蚀剂
机译:高敏度负和正连续音重氮膜的研究