immersion lithography; photonic crystals; interferometric lithography;
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:利用干涉空间相成像技术对液浸光刻进行动态对准控制
机译:使用浸没干涉光刻技术对30 nm纳米球进行三维成像
机译:技术计算机辅助设计中的成像干涉光刻优化。
机译:基于交叉相干处理的三维干涉测量ISAR成像算法
机译:使用浸没干涉光刻技术对30 nm纳米球进行三维成像