PROLITH; lithography simulation; double patterning; RCWA;
机译:Lubomyr T. Romankiw和光刻图案化对电流分布的影响:电沉积微制造模型
机译:碳纳米材料电极通过电液动力印刷的润湿性图案的聚合物刷非光刻直接图案化,用于制造有机场效应晶体管
机译:适用于PHC图案化和图案LED表面的光学性能的光刻技术
机译:双图案光刻工艺的建模
机译:先进的光刻图案技术:材料和工艺。
机译:用于形成相分离膜的软光刻图案水凝胶模具的耐久性和可恢复性
机译:有机电子和生物材料的光刻图案化工艺