Mask Process Correction (MPC); Model-based MPC; Mask writer; VSB; Multi-beam; Multi-beam mask writer; Inverse Lithography Technology (ILT); MPC; Mask simulation; Shot count; GPU;
机译:具有100 kV-SB和50 kV-VSB写入器的混合EB写入技术:将前者用于轮廓,将后者用于主体,将图案数据分割后
机译:电子束掩模写入器中热稳定真空室中掩模浸泡性能的评估
机译:掩模扫描电子束掩模写入器的开发
机译:基于模型的MPC可使用VSB或多光束掩模写入器启用曲线ILT
机译:基于模型的曲线网络提取及朝向生物聚合物网络定量分析的跟踪
机译:经修订的插管式喉管(ILTS-D2)是否比插管式喉罩(Fastrach)更好? –随机模拟研究
机译:反向光刻技术(ILT)启用源掩模优化(smO)