Annealing; Heating systems; Cooling; Temperature measurement; Doping; Correlation; Implants;
机译:重掺杂磷的外延硅膜的化学键合状态和掺杂剂的重新分布:毫秒激光退火和掺杂浓度的影响
机译:关于绝缘子上锗化硅(SGOI)中n和p型掺杂剂的活化以及掺杂剂行为与退火条件的关系的研究
机译:使用纳秒激光退火的(111)硅衬底上原位磷掺杂硅的缺陷还原和掺杂剂活化
机译:毫秒退火预热对掺杂剂活化的影响
机译:硅结构的脉冲激光退火,用于结晶和掺杂剂激活。
机译:广泛分析沉积Al2O3在N型硅衬底上的沉积退火的影响
机译:磷掺杂剂扩散,活化和退火。使用红外激光器合成N型硅薄膜