ion bombardment; binary semiconductors; sputtering yield; confocal microscopy;
机译:制备参数对Ⅲ-Ⅴ族半导体表面低能离子束氮化的影响
机译:用于InP(111),InAs(111)半导体实表面研究的表面声波技术
机译:低能离子辐照下半导体表面非晶层的形成:实验与理论
机译:用于半导体表面制备的低能量离子技术
机译:半导体和高TC超导体表面的低能量离子表面相互作用
机译:细胞表面分析技术:细胞制备方案对细胞表面特性有什么作用?
机译:通过低能量制备原子清洁和平坦的si(100)表面 离子溅射和低温退火
机译:通过VpE(气相外延)氢化物技术制备三元III-V半导体中的极限组合物。