Implants; Annealing; Ion implantation; Silicon; Monitoring; Ions; FinFETs;
机译:低能量低剂量注入的硅片顶部Si层和掩埋氧化物层的TEM研究
机译:氢和氦注入硅的低温光致发光特性
机译:快速热退火后低剂量砷离子注入硅的室温光致发光特性
机译:室温光致发光非常低的能量和低剂量F + SUP>植入硅晶片
机译:微波退火对低能离子注入晶圆的影响。
机译:Eu3 +激活的SrZrO3空心球的结构评估和温度依赖性光致发光特性用于发光测温应用
机译:通过HE-H在低能量下植入靠近硅晶片表面而形成的裂缝和水泡
机译:钬和Th注入III-V半导体和硅的低温光致发光研究。