Etching; Iterative closest point algorithm; Indium tin oxide;
机译:使用基于F和Cl的蚀刻剂对Ge基多栅极器件进行纳米级Ge鳍片蚀刻
机译:通过电感耦合等离子体反应离子刻蚀对微/纳米流体器件进行耐热玻璃基板的刻蚀
机译:通过电感耦合等离子体刻蚀形成的纳米级GaN岛,尖端,管和锥阵列的与结构有关的光学行为
机译:纳米级GE FIN蚀刻使用电感耦合等离子体用于基于GE的基于GE的多栅极设备
机译:使用电感和电容耦合的碳氟化合物放电对电介质材料进行等离子蚀刻:表面化学机理的研究。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:电感耦合等离子体光电子器件用ZnO薄膜的干刻蚀特性