Mathematical model; Electric fields; Degradation; Semiconductor device modeling; Human computer interaction; Integrated circuit modeling; Current measurement;
机译:HCI诱导LDMOS降解特性的物理最大电场建模研究。
机译:高K介电常数双栅金属氧化物半导体场效应晶体管中边缘电场引起的势垒降低和寄生电荷引起的性能下降
机译:氮流量比与溅射氮化钛栅体平面金属氧化物半导体场效应晶体管和鳍型金属氧化物半导体场效应晶体管电学特性的比较研究
机译:LDMOS晶体管HCI诱导劣化特性的最大电场建模研究
机译:金属铁电半导体场效应晶体管对所选模拟电路的实证研究与建模
机译:解剖变异性对电惊厥疗法和磁惊厥疗法电场特性的影响:参数模型研究
机译:GAN-SI高电子迁移率晶体管中高电场诱导降解机制的DC,RF和热表征
机译:中子诱导晶体管电特性的变化及改进的Ebers moll晶体管模型的变化。