首页> 外文会议>IEEE International Conference on ASIC >Study on maximum electric field modeling used for HCI induced degradation characteristic of LDMOS transistors
【24h】

Study on maximum electric field modeling used for HCI induced degradation characteristic of LDMOS transistors

机译:用于HCl诱导LDMOS晶体管退化特性的最大电场建模研究。

获取原文

摘要

This paper reports a maximum electric field model of laterally diffused MOSFET (LDMOS) transistors under the condition of high current injection effect used for reliability simulations. LDMOSs operate under high-voltage and large-current biases, where electric field increases with biases at the gate edge. We present the investigation, formulations, and verifications of our maximum electric field model.
机译:本文报告了用于可靠性仿真的大电流注入效应条件下横向扩散MOSFET(LDMOS)晶体管的最大电场模型。 LDMOS在高压和大电流偏置下工作,其中电场随着栅极边缘的偏置而增加。我们介绍了最大电场模型的研究,公式和验证。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号