X-ray chemical analysis; X-ray diffraction; aluminium alloys; annealing; copper alloys; metallisation; scanning electron microscopy; vapour deposition; Al-Cu; Alsub2/subCu; Alsub3/subCusub2/sub; Alsub4/subCusub9/sub; Alsub6/subCusub94/sub; AlCu; EDX; IMC growth; PVD layer; SAD; SEM; X-ray diffraction analysis; XRD; activation energies; annealing conditions; annealing matrix; bond strength; device application temperatures; diffusion constants; electron volt energy 1.0 eV; electron volt energy 1.05 eV to 1.1 eV; electron volt energy 1.2 eV;
机译:Al-Cu金属间化合物在铜线键合中的生长行为研究
机译:Al-Cu扩散耦合中的金属间化合物生长和应力发育
机译:Sn表面扩散对Cu / Ni / Snag Microbumps中金属间化合物生长行为的影响
机译:Al-Cu金属间化合物的生长行为和物理反应
机译:焊接过程中金属溶解和金属间化合物生长的实验研究和建模。
机译:Ti-Al金属间化合物的非等温氧化行为及其机理
机译:金属间化合物形成影响铝铜焊接性能的因素
机译:基本物理参数对金属间化合物工程性能的影响