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Uniaxially tensile strained accumulation-mode gate-all-around Si nanowire nMOSFETs

机译:单轴拉伸应累积 - 模式门 - 全部围绕Si纳米线NMOSFET

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摘要

In this work we report an experimental study on accumulation-mode (AM) gate-all-around (GAA) nMOSFETs based on silicon nanowires with uniaxial tensile strain. Their electrical characteristics are studied from room temperature up to ∼400 K and carrier mobility, flat-band and threshold voltages are extracted and investigated.
机译:在这项工作中,我们报告了基于具有单轴拉伸菌株的硅纳米线的积累 - 模式(AM)门(GaA)NMOSFET的实验研究。将其电气特性从室温进行,提取和研究了载流子迁移率,平面和阈值电压。

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