high resolution; contrast and sensitivity resists; CAR; positive e-beam lithography; lift-off structures; multilayer-technologies;
机译:电子能量为40 keV的新型CSAR62正性电子束抗蚀剂的研究
机译:用于电子束光刻的高分辨率图案化的新型化学增强抗蚀剂
机译:MMA的含硅共聚物经过正电高分辨率高分辨率双层电子束抗蚀剂体系测试
机译:用于最高分辨率的化学半扩增正电子束抗蚀剂62
机译:电子束生成等离子体中高级抗蚀剂蚀刻的比较。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:CsaR 62作为高对比度电子束光刻的负色调抗蚀剂 温度在4 K和室温之间
机译:聚(氯乙醛),正电子束抗蚀剂的辐解