CV characterization; RF-sputtered HIZO layers; RF-sputtered HfO; layers; amorphous oxide semiconductor;
机译:双层HFO
机译:<![CDATA [CDATA [致密GD的合成和表征
机译:使用RF溅射的HfO2 / HIZO层表征MIS结构和薄膜晶体管
机译:RF溅射沉积的HFO
机译:INF56的特征,INF56是在豆类锈菌乌头霉菌感染结构发育过程中表达的基因。
机译:反向Formin 2的纳米结构自组装(INF2)和F-Actin–INF2复合物的原子揭示力显微镜
机译:溅射沉积的Gd0.1ce0.9O2-δ薄缓冲层的结构和电学表征在Y稳定的氧化锆电解质界面上的IT-固体氧化物细胞